Điểm khác biệt nhỏ
- Phạm vi đo mở rộng: 10 nm – 3.500 µm
- Nhiễu xạ laser cộng với tán xạ vi phân cường độ phân cực tiên tiến (Công nghệ PIDS ) cho phép đo lường và báo cáo dữ liệu thực có độ phân giải cao xuống tới 10 nm
- Cung cấp khả năng phát hiện chính xác, đáng tin cậy của nhiều kích thước hạt trong một mẫu duy nhất
Phần mềm dễ sử dụng
- Phần mềm ADAPT có tính năng tự động kiểm tra đạt/không đạt
- Các phương pháp được định cấu hình trước mang lại kết quả với 3 lần nhấp chuột trở xuống
- Đơn giản hóa hoạt động của máy phân tích bởi các chuyên gia cũng như người dùng mới làm quen
- Lớp phủ 1 lần nhấp với lịch sử dữ liệu
- Chẩn đoán người dùng trực quan giúp bạn được thông báo trong quá trình lấy mẫu
- Tạo phương pháp đơn giản hóa cho các phép đo tiêu chuẩn hóa
Công nghệ PIDS để phát hiện trực tiếp các hạt 10 nm
- 3 bước sóng ánh sáng (450, 600 & 900 nm) chiếu xạ mẫu bằng ánh sáng phân cực dọc và ngang
- Máy phân tích đo ánh sáng tán xạ từ các mẫu qua nhiều góc độ
- Sự khác biệt giữa ánh sáng bức xạ theo chiều ngang và chiều dọc cho mỗi bước sóng mang lại dữ liệu phân bố kích thước hạt có độ phân giải cao
EN