Thiết bị khối phổ nguyên tử Plasma (ICP-MS) là phương pháp tiêu chuẩn phân tích linh hoạt, nhạy và nhanh chóng trong các lĩnh vực ứng dụng khác nhau. Với dòng PlasmaQuant MS, Analytik Jena cung cấp ICP-MS vượt trội về độ tin cậy, độ chính xác và công suất, đồng thời đáp ứng mọi yêu cầu về xử lý mẫu, độ bền và tuân thủ.
Độ nhạy và hiệu quả
Mức độ nhạy độc đáo của PlasmaQuant MS mang đến những lợi thế phân tích được phản ánh rõ ràng về hiệu quả và chi phí trên mỗi mẫu thấp hơn. Thiết kế máy quang phổ được cấp bằng sáng chế của hệ thống ICP-MS cung cấp giới hạn phát hiện thấp nhất và chất lượng phân tích ổn định trong thời gian tích hợp cực ngắn và hệ số pha loãng cao. Điều này đảm bảo công suất cao, độ ổn định lâu dài và kết quả có thể lặp lại, đồng thời giảm đáng kể chi phí bảo trì của bạn.
- Khoảng phát hiện tốt nhất
- Thông lượng cao
- Giảm việc chuẩn bị mẫu
- Hiệu suất mạnh mẽ
- Yêu cầu bảo trì thấp
Hiệu suất cao và chi phí vận hành thấp
Với những thiết bị mạnh mẽ và đáng tin cậy này, các phòng thí nghiệm có thể đáp ứng những thách thức hiện tại về việc tăng lượng mẫu hoặc giảm thời gian đo mà không làm mất đi độ chính xác và độ tái lập phân tích cao.
Khả năng phân tích tốt
Khả năng phân tích khối lượng tốt với độ nhạy lên tới 1500 Mcps/ppm ở mức <2% CeO đối với các đồng vị có độ phổ biến thấp cho phép phát hiện nồng độ nguyên tố cực thấp, nồng độ loại nguyên tố thấp và các hạt đơn lẻ có đường kính dưới 5 nm, cũng như cung cấp độ chính xác cao trong việc xác định tỷ lệ đồng vị.
Công suất mẫu cao nhất
Trong nhiều ứng dụng, tốc độ phân tích cũng quan trọng như cường độ phát hiện và độ chính xác. Công suất mẫu cao hơn giúp giảm đáng kể chi phí cho mỗi mẫu. Độ nhạy cao của PlasmaQuant MS và lợi thế về độ chính xác mang lại, giúp đạt được năng suất mẫu cao nhất trên thị trường ICP-MS với tốc độ lên tới 80 mẫu mỗi giờ.
Ngọn lửa plasma mạnh mẽ
Thiết bị ICP-MS mang lại độ bền, độ ổn định cao cho ngọn lửa plasma trong thời gian dài. Điều này đảm bảo đặc tính đáng tin cậy cũng như giảm thiểu độ lệch được giảm thiểu khi có sự thay đổi nền mẫu.
Chi phí hợp lý
So với các thiết bị khác trên thị trường, hệ thống ICP-MS tiêu thụ khí argon ít hơn tới 50%, tức là khoảng 10 l/phút. Chúng cũng giúp giảm tới 50% chi phí vận hành plasma. Sự kết hợp giữa cường độ phát hiện, tốc độ, giảm mức tiêu thụ argon và công suất cao giúp giảm đáng kể chi phí trên mỗi mẫu. Ngoài ra, thiết kế của hệ thống dạng mở đảm bảo khả năng tiếp cận dễ dàng và độc lập – giảm yêu cầu bảo trì.
EN